当制样进入抛光步骤时，选择合适的抛光布就是非常关键的一步。贺利氏公司在多年金相制样研发的基础之上，开发出新一代Technocloth抛光布。贺利氏公司精心选材，经过专业处理，新一代Technocloth抛光布专业、耐用和较好的制样效果。

 贺利氏抛光布既可以用于自动磨抛也可用于手动磨抛，拥有与目前市场上主流磨抛设备支持盘尺寸匹配的抛光布型号。为便于客户使用，贺利氏Technocloth抛光布有三种固定模式：自粘型，静电吸附型和磁性吸附型。

自粘型

自粘型抛光布具有三层结构：表面磨抛层、超薄硬背基层和胶粘层。贺利氏Technocloth特有的三层结构保证了抛光布工作时平整度。同时也使得抛光布本身在FAS®固定系统盘上快速、简单的固定位置。

静电吸附型

静电吸附型抛光布同样具有三层结构：表面磨抛层、超薄硬背基层和XLAM®层。使用时，静电吸附型抛光布与XLAM®固定系统盘配合使用，快速、简单、平整度更佳。

磁性吸附型

磁性吸附型抛光布也是两层结构：表面磨抛层和柔软的Magnetic层。磁性吸附型抛光布避免了抛光布出现永久性折痕和操作时出现伤口。与FMS®磁性固定系统盘配合使用，操作简单、方便。

根据您的制样需求，贺利氏向您推荐合适的抛光布。

选择抛光布的相关参数标准：

切削能力

平整度

光洁度

抛光布

2FC1

无纺布，合成纤维。

用于精磨软质材料，抛光硬质和超硬材料

与3-9um金刚石悬浮液配合使用

2FC2

无纺布，合成纤维。

出色的抛光光洁度，用于抛光有色金属。

与0.05-0.25um氧化物抛光液体配合使用。

2TT1

机织布，塔夫绸，合成纤维。

由于出色的切削能力和抛光布自身的平整度，用于粗抛难加工材料，例如韧性材料。

与6-15um金刚石悬浮液配合使用

2TS3

机织布，超薄缎子，天然纤维。

出色的自身平整度，抛光光洁度，保护试样夹杂物和边缘

与2-9um的金刚石悬浮液配合使用

2TS4

机织布，缎子，天然纤维。

出色的自身平整度，抛光光洁度和边缘保护。尤其适用于对具有多种硬度或涂层试样的抛光。使用寿命长。

与1-6um金刚石悬浮液配合使用。

3SE1

机织布，丝绸，合成纤维。

出色的自身平整度和抛光光洁度。用于抛光软质材料。

与1-3um金刚石悬浮液配合使用。

3TL1

机织布，高阻抗，羊毛纤维。

用于抛光未包埋试样。使用寿命长。

与3-6um金刚石悬浮液配合使用。

3FV1

植绒布，中等硬度，短胶粘纤维。

出色的抛光光洁度。用于抛光硬质材料。

与1-3um金刚石悬浮液配合使用。

4FV1

植绒布，软质，长胶粘纤维。

极其出色的抛光光洁度。用于抛光所有材料，包括非常软的材料。

与0.25-3um金刚石悬浮液配合使用，也可与0.05-0.25um氧化物抛光液体配合使用。 

4FV2

植绒布，软质，长胶粘纤维。

极其出色的的抛光光洁度。用于抛光中等硬度材料。

与1-6um金刚石悬浮液配合使用。

4FV3

植绒布，软质，长短双胶粘纤维。

极其出色的抛光光洁度。用于抛光软质材料。

与1um金刚石悬浮液配合使用。

4MP1

泡沫结构布，多孔聚氨酯泡沫。

用于终抛光的敏感材料。

与0.05-0.25um氧化物抛光液体配合使用。